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1400℃真空氣氛管式電爐的真空控制系統(tǒng),通過各種真空控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)樣品在低、中、高真空環(huán)境下進行試驗。
1400℃真空氣氛管式電爐的真空控制系統(tǒng),通過各種真空控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)樣品在低、中、高真空環(huán)境下進行試驗。
1400℃真空氣氛管式電爐的真空控制系統(tǒng),通過各種真空控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)樣品在低、中、高真空環(huán)境下進行試驗。
1400℃真空氣氛管式電爐的真空控制系統(tǒng),通過各種真空控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)樣品在低、中、高真空環(huán)境下進行試驗。
1400℃真空氣氛管式電爐的真空控制系統(tǒng),通過各種真空控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)樣品在低、中、高真空環(huán)境下進行試驗。
1400℃真空氣氛管式電爐的真空控制系統(tǒng),通過各種真空控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)樣品在低、中、高真空環(huán)境下進行試驗。
SK-G05163真空氣氛管式電爐產品特點: 該系列電爐系周期作業(yè),供企業(yè)實驗室、大專院校、科研院所等單位選用。設備為用戶提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境,應用在半導體、電子陶瓷產品、納米技術、碳纖維、高溫熱解低溫沉淀(CVD)、鍍膜等新型材料新工藝領域。
SK-G05165真空氣氛管式電爐產品特點: 該系列電爐系周期作業(yè),供企業(yè)實驗室、大專院校、科研院所等單位選用。設備為用戶提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境,應用在半導體、電子陶瓷產品、納米技術、碳纖維、高溫熱解低溫沉淀(CVD)、鍍膜等新型材料新工藝領域。
SK-G06163真空氣氛管式電爐產品特點: 該系列電爐系周期作業(yè),供企業(yè)實驗室、大專院校、科研院所等單位選用。設備為用戶提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境,應用在半導體、電子陶瓷產品、納米技術、碳纖維、高溫熱解低溫沉淀(CVD)、鍍膜等新型材料新工藝領域。
SK-G06165真空氣氛管式電爐產品特點: 該系列電爐系周期作業(yè),供企業(yè)實驗室、大專院校、科研院所等單位選用。設備為用戶提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境,應用在半導體、電子陶瓷產品、納米技術、碳纖維、高溫熱解低溫沉淀(CVD)、鍍膜等新型材料新工藝領域。
